某半导体芯片加工工业企业因晶圆擦洗道工序诞生含氨废渣，排水量200吨/天。废渣中除挥发酚外还包含有氟化物和氢化物发生器血本属，正确处理难易大。位置废气排放细则特殊要求挥发酚＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 污废水 营养成分及来原 晶圆除污废水处理工艺（主要的来历）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀工艺技术污水：含进样器铜、镍等血本属，pH值起伏大 CMP考虑废水处理方法：含硅颗料及氯离子 整理新工艺步奏 选取"化学物质沉淀自己+膜提取+折点氯化"结合加工制作工艺 ： 预加工 ：加药CaCl2除氟，调整pH在7.5-8. 反渗透装置系统化 ：删去0.01μm这些颗粒剂物 反渗透膜法原谅我真的喝醉了 因为我真的想你的 一不小心 我知道这样不应该 对你泰国依赖 ：将氟化物浓缩造成至1000mg/L不低于 折点氯化 ：精确度高管控氯加药量，将氟化物转化率为氢气 阴离子交易 ：担保天价属未达标 最中功效 氯离子稳定性高＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属水分含量超过在线检测限 水使用率达75% 淤泥生成量缩短40%