天津某半导体行业集成块制造商厂，晶圆鑫霖环保操作过程中所产生含硅、氟的非常规污工业废水 ，设计构思净化治理占比1200吨/日。污工业废水 部分有难度，富含nm级硅颗粒剂及氢氧化钠，传统型净化治理技术根本无法合格。 废气成份及来原 一般造成的固体废弃物 ：悬浊液硅（100-500nm孔径）、氟化合物（200-300mg/L）、异丙醇 由来生产工序 ：晶圆刻蚀鑫霖环保（45%）、CMP化学上机械性抛光处理鑫霖环保（40%）、机器设备情况呢水（15%） 治疗工艺设计具体步骤 创新性选取"耐腐蚀积累+特种作业膜离心分离"技巧交通路线： 钙盐沉定 ：加药氯化钙的还原氟阳离子（提取CaF2滤渣） 斜板沉淀池反应迟钝 ：复合型斜管沉淀池剂保证电解质溶液硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜虚报冒领微细顆粒 反构建模式 ：脱盐率>98%，收集率75% 蒸馏晶体 ：浓水段确保氟化物0排放出 决定功效 氟化物浓度值：<8mg/L（大于发展中国家一层标准10mg/L） 硅分子量：<5mg/L 水的资源中水回用率：70%中用保压塔补湿 垃圾减轻：蒸馏残余物量较普通生产技术可以减少60%